Sensofar 3D 光学轮廓仪

全新设计的3D 光学轮廓仪 S neox将共聚焦、干涉和多焦面叠加技术融合于一身,测量头内无运动部件;
Sensofar测量设备可以帮助用户取得实质性突破,特别是在半导体、精密光学部件、数据存储、显示设备、膜厚和材料测试等领域

  S neox的优点:

1、三合一技术

共聚焦 干涉测量 多焦面叠加

共聚焦技术可以用来测量各类样品表面的形貌。它比光学显微镜有更高的横向分辨率,可达0.10um。利用它可实现临界尺寸的测量。当用150倍、0.95数值孔径的镜头时,共聚焦在光滑表面测量斜率达70°(粗糙表面达86°)。

特殊的共聚焦算法保证Z轴测量重复性在纳米范畴。

a、PSI 相位差干涉

相位差干涉是一种亚纳米级精度的用于测量光滑表面高度形貌的技术。它的优势在于任何放大倍数都可以保证亚纳米级的纵向分辨率使用2.5倍的镜头就能实现超高纵向分辨率的大视场测量。

 

b、VSI 白光干涉

白光干涉是一种纳米级测量精度的用于测量各种表面高度形貌的技术。它的优势在于任何放大倍数都可以保证纳米级的纵向分辨率。

 

多焦面叠加技术是用来测量非常粗糙的表面形貌。根据Sensofar在共聚焦和干涉技术融合应用方面的丰富经验,特别设计了此功能来补足低倍共聚焦测量的需要。该技术的最大亮点是快速(mm/s)、扫描范围大和支援斜率大(最大86°)。

此功能对工件和模具测量特别有用。

 

2、多波长的LED光源

    S neox有4个独立的LED光源红色光源红色(630 nm),(630 nm), 绿色(530 nm), 蓝色(460 nm)和白色,可以满足各种应用的需要。较短的光波长可在测量时获得最好的水平分辨率。较长的光波长有更好的光学相干性,适合干涉扫描使用。此外红、绿 、蓝三色LED交替照明的方式还能帮助获得最真实和高对比度的图像。

3、采用 1360x1024的高分辨率CCD

    S neox 采用 1360x1024的高分辨率CCD,显示分辨率达 2560x1440像素。图像锐利、生动、无延迟。

4、3D形貌的全新体检,采用高分辨率的摄像头将共聚焦的图像精彩呈现

    一次完整的3D扫描时间还不到10秒。用高速模式扫描低反射率的样品时,3D扫描时间将少于3秒。

5、高品质的物镜

    S neox采用尼康优质的平场消色差高分辨率CF60-2系列镜头。这意味着S neox的物镜可在保证NA值的同时增大工作距离,使操作更方便。

6、杰出的横向分辨率

    S neox 的水平分辨率和纵向分辨率要比激光共聚焦显微镜更优秀,达到了光学显微系统的极限。

7、多样的配置方案

    S neox 提供灵活、坚固和高性价比的支架平台解决方案。可以满足研发、品质管控、在线测量等各类用户的多样要求。最大样品尺寸可达 700 x 600 mm2

 

 系统参数:

CCD像素 1360 x 1024
LED光源 红(630nm),绿(530nm),蓝(460nm),白(550nm)
样品高度 标准支架40mm,可调支架150mm(更大可定制)
平台尺寸 最大 700x600 mm
Z轴移动行程 标准支架40mm,PZT装置200um
Z轴测量范围 PSI20μm; ePSI100μm; VSI10mm,共聚焦10mm,多焦面叠加37mm
Z轴线性度 标准支架 <0.5 μm/mm ,PZT装置 <30 nm/100 μm (0.03%)
Z轴分辨率 标准支架 2nm;PZT装置0.75nm
台阶高度重复性 0.1%
台阶精度 0.5%
样品反射率 0.05% to 100%
显示分辨率 0.001 nm
电源 交流电100-240AC,50/60Hz
电脑配置 最新款INTEL处理器;2560x1440分辨率显示器(27英寸)
操作系统 Microsoft Windows 7
工作环境 温度:10-35度,湿度<80%,海拔<2000m

特性

应用2

半导体专业设备
无尘室耗材
仪表仪器和检测设备